Los principales factores que afectan a la distribución de la capa de la galjanoplastia son la polarización catódica de la solución de la galjanoplastia, la conductividad, la eficiencia actual del cátodo, la geometría del electrodo y el baño de la galjanoplastia y el estado superficial de la base metal.
1. catódica polarización polarización catódica es la pendiente de la curva de polarización catódica, que es el grado en que el potencial catódico cambia con la densidad de corriente catódica (dφ/dDK). Puesto que la pendiente de cada punto en una curva de polarización catódica es diferente, la polarización en cada punto no es lo mismo. Cuando las otras condiciones no cambian, la polarizabilidad de la solución de la galjanoplastia es mejor. Por lo tanto, cualquier factor que puede aumentar la polarización catódica (como seleccionar agentes secuestrantes adecuados y aditivos, etc.) puede mejorar la dispersabilidad y la cobertura de la capa.
2. electrochapado conductividad de la solución en general, aumentando la conductividad aumenta la cobertura. Cuando la polarizabilidad catódica de la solución de la galjanoplastia es grande, aumentando la conductividad puede mejorar significativamente la dispersabilidad y la cobertura. La polarizabilidad es muy pequeña o incluso cerca de cero, aumentando la conductividad no puede mejorar la capacidad de dispersión. Por ejemplo, el grado de polarizabilidad en el momento de la galjanoplastia de cromo es casi igual a cero, así que incluso si la solución de cromado tiene buena conductividad, la dispersión de los mismos y la cobertura es pobre.
3. cátodo eficacia actual el efecto de la eficiencia corriente catódica sobre la capacidad de dispersión depende del grado en que la eficiencia corriente catódica varía con la densidad de corriente catódica. Generalmente se puede dividir en tres situaciones:
(1) la actual eficiencia de cátodo varía poco con el cambio en la densidad de corriente (por ejemplo, sulfato cobre galjanoplastia, galvanización) y la eficiencia actual casi no tiene efecto.
(2) eficiencia actual cátodo disminuye a medida que aumenta la densidad de corriente (por ejemplo, todos galjanoplastia soluciones utilizando un agente secuestrante), la eficiencia corriente catódica puede mejorar cobertura y dispersión. Debido a la gran densidad de corriente, la eficiencia actual es baja y la eficacia actual es alta cuando la densidad de corriente es pequeña, por lo que la densidad de corriente real en los cátodos se redistribuye más uniformemente. Es decir, ha aumentado la capacidad de dispersión.
(3) eficiencia actual cátodo aumenta con el aumento de densidad de corriente (por ejemplo, galjanoplastia de cromo), que puede reducir la dispersión y cobertura. Porque la densidad de corriente en el cátodo es alta, la eficacia actual es alta y la densidad de corriente es baja donde la densidad de corriente es pequeña, por lo que la densidad de corriente real en los cátodos se redistribuye más irregularmente, es decir, la dispersión es reducido.
4. electrodo y galjanoplastia geometría celular factores de la forma y el tamaño de los electrodos, la distancia entre los electrodos, la posición del electrodo en el baño de la galjanoplastia, y la forma del baño chapado todos afectan a la distribución uniforme de la capa en la superficie del cátodo. Con el fin de mejorar la distribución desigual de corriente en el electrodo causado por esto, el auxiliar del cátodo y el ánodo pictórico se utilizan en galvanoplastia y adecuadamente aumenta la distancia entre el cátodo y el ánodo.
5. superficie estatal del metal base puesto que la sobretensión de hidrógeno sobre la superficie rugosa es más pequeño que la superficie lisa, hidrógeno precipita fácilmente sobre la superficie rugosa y el depósito no se deposita fácilmente. Por lo tanto, mejora la suavidad del metal base a menudo puede mejorar la capacidad de la cubierta. Además, si el metal de la matriz contiene impurezas con bajo hidrógeno hidrógeno overpotential (como impurezas de carbono en hierro fundido), precipita fácilmente en estas impurezas y la capa depositada es difícil depositar. Si la sobretensión de hidrógeno en el metal base es menor que la sobretensión en el metal de la galjanoplastia, más hidrógeno escapará durante el proceso de la galjanoplastia inmediatamente después del depósito. Si el revestimiento se aplica localmente en este tiempo, evolución de hidrógeno es menor y la eficacia actual es alta ya que el recubrimiento se aplica en primer lugar, que reducirá la capacidad de dispersión. En este momento, en orden a la placa uniforme continuo de la galjanoplastia, una gran densidad de corriente "impacto" se utiliza a menudo al principio de la fuente de alimentación, para que la superficie del sustrato metal rápidamente es plateada con una capa de metal con una sobretensión de hidrógeno grande y entonces la galvanización normal en la densidad de corriente, que puede eliminar el efecto adverso del metal base en la dispersabilidad y la cobertura
158. el estado y tendencia de desarrollo de nueva tecnología de recubrimiento funcional
I. Resumen técnico de
Nueva superficie de tecnologías, incluyendo tecnología de recubrimiento químico de baja temperatura y tecnología ultra profunda modificación superficial, la cual uso física, química o fisicoquímica para cambiar la "superficie y composición de la capa funcional materiales y sus partes", sus características es mantener las características inherentes del material matriz, sino también para proporcionar una variedad de propiedades necesarias para que la superficie, con el fin de cumplir los requisitos especiales de diferentes tecnologías y servicio medio ambiente para el material, por lo que es el campo técnico más activo de fabricación y materiales de disciplinas, pero también implica superficie tratamiento interdisciplinario con tecnología de recubrimiento. Su mayor ventaja radica en su capacidad para producir capas superficiales extremadamente delgadas que son difíciles o incluso imposibles de obtener con un mínimo de consumo de energía y material. Esto resulta en mayores beneficios económicos. Es una modificación superficial de alta calidad, altamente eficaz y capa. tecnología.
Modificación superficial de alta calidad, alta eficiencia y tecnología de la capa tiene una amplia gama: como la tecnología superficial química térmica; deposición de vapor física; deposición de vapor químico; tecnología de deposición de vapor químico físico; tecnología de alta energía isotópico capa superficial; capa de la película fina del diamante; Tecnología de recubrimiento compuesto de múltiples capas; modificación superficial y capa de predicción de rendimiento y recortar tecnología; evaluación del rendimiento de prueba y de la vida y así sucesivamente.
La nueva tecnología de deposición de vapor químico de baja temperatura presenta una tecnología de plasma mejorada para reducir su temperatura a menos de 600 grados y obtener un nuevo proceso de revestimiento duro resistente al desgaste. El de alta resistencia, proceso de revestimiento de alto rendimiento producido a alta velocidad y procesamiento difícil carga pesada tiene su papel.
La tecnología ultra profunda modificación superficial puede aplicarse a la mayoría de tratamiento térmico de piezas y partes de tratamiento superficial y puede reemplazar el amortiguamiento de alta frecuencia, carbonitruración, nitruración de iones y otros procesos para obtener una capa más profunda de la penetración, mayor resistencia al desgaste, productos súbita aumento de la esperanza de vida puede producir cambios funcionales avance.
Segundo, el status quo y las tendencias de desarrollo en el país y en el extranjero
Con el desarrollo de la industria básica y productos de alta tecnología, la demanda de modificación superficial de alta calidad, alta eficiencia y tecnología de la capa se ha extendido en profundidad. En el país y en el extranjero en la situación en este campo y disciplinas afines promoción unos a otros, como la "modificación superficial química térmica" ha habido avances en el desarrollo de "capas de plasma de alta energía", "diamond thin-film tecnologías de revestimiento"y"modificación superficial y capa de procesan de predicción simulación y rendimiento".
1. condición y tendencia de desarrollo de tecnología termoquímica modificación superficial
En los últimos años, extranjeros ha hecho hincapié en "Carburando, carbonitriding y otras tecnologías bajo condiciones de atmósfera controlada y las condiciones de vacío y ha logrado la industrialización. Sin embargo, raramente se utiliza en China, y trabajos relacionados con investigación tecnológica no es suficiente. Carburación y vacío carburación tecnologías considerablemente acortan el ciclo de producción, ahorran energía y ahorrar tiempo. Al mismo tiempo, puede mejorar la calidad de piezas de trabajo, evitar la oxidación, descarburización, asegurar la resistencia a la corrosión y resistencia a la fatiga de las piezas y reducir el margen de mecanizado después del tratamiento térmico. Tiempo de eliminación.
En la actualidad, los resultados de investigación sobre el control y monitoreo de carbono potencial en el mundo y el control del tipo de capa de tela han sido aplicado a la actual producción y computarizado control dinámico en línea.